Оптические компоненты и приборы

Отображение 11461–11490 из 14961

Линия переменной задержки, 1550 нм, 330 пс, пигтейлы PM, модель FC/APC: F-VDL-1-3-FA-P
В корзину
Линия переменной задержки, 1550 нм, 330 пс, пигтейлы PM, модель FC/APC: F-VDL-1-3-FA-P
995 050 ₽
Линия переменной задержки, 1550 нм, 330 пс, пигтейлы PM, модель FC/APC: F-VDL-1-3-FA-P
В корзину
Линия переменной задержки, 1550 нм, 330 пс, пигтейлы PM, модель FC/PC: F-VDL-1-3-FP-P
995 050 ₽
Линия переменной задержки, 1550 нм, 330 пс, пигтейлы PM, модель FC/APC: F-VDL-1-3-FA-P
В корзину
Линия переменной задержки, 1550 нм, 600 пс, пигтейлы PM, модель FC/APC: F-VDL-1-6-FA-P
1 257 375 ₽
Линия переменной задержки, 1550 нм, 330 пс, пигтейлы PM, модель FC/APC: F-VDL-1-3-FA-P
В корзину
Линия переменной задержки, 1550 нм, 600 пс, пигтейлы PM, модель FC/PC: F-VDL-1-6-FP-P
1 257 375 ₽
Линия переменной задержки, моторизованная, 1550 нм, 560 пс, пигтейлы PM, модель FC/APC: MDL-1-6-FA-P
Подробнее
Линия переменной задержки, моторизованная, 1310/1550 нм, 330 пс, SMF-28, FC/PC Модель: MDL-2-3-FP-S
Линия переменной задержки, моторизованная, 1550 нм, 560 пс, пигтейлы PM, модель FC/APC: MDL-1-6-FA-P
Подробнее
Линия переменной задержки, моторизованная, 1310/1550 нм, 560 пс, SMF-28, FC/APC Модель: MDL-2-6-FA-S
Линия переменной задержки, моторизованная, 1550 нм, 560 пс, пигтейлы PM, модель FC/APC: MDL-1-6-FA-P
Подробнее
Линия переменной задержки, моторизованная, 1310/1550 нм, 560 пс, SMF-28, FC/PC Модель: MDL-2-6-FP-S
Линия переменной задержки, моторизованная, 1550 нм, 560 пс, пигтейлы PM, модель FC/APC: MDL-1-6-FA-P
Подробнее
Линия переменной задержки, моторизованная, 1550 нм, 560 пс, пигтейлы PM, модель FC/APC: MDL-1-6-FA-P
Линия переменной задержки, моторизованная, 1550 нм, 560 пс, пигтейлы PM, модель FC/APC: MDL-1-6-FA-P
Подробнее
Линия переменной задержки, моторизованная, 1550 нм, 560 пс, пигтейлы PM, модель FC/PC: MDL-1-6-FP-P
Магнитооптические кристаллы
Подробнее
Магнитооптические кристаллы
МАКРОС Ротаторы и изоляторы
Подробнее
МАКРОС Ротаторы и изоляторы
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расхождение 0,5°, покрытие UV-VIS
Подробнее
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расходимость 1°, покрытие NIR II
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расхождение 0,5°, покрытие UV-VIS
Подробнее
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расходимость 1°, покрытие UV-VIS
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расхождение 0,5°, покрытие UV-VIS
Подробнее
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расходимость 1°, покрытие VIS-NIR
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расхождение 0,5°, покрытие UV-VIS
Подробнее
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расходимость 2°, покрытие VIS-NIR
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расхождение 0,5°, покрытие UV-VIS
Подробнее
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расхождение 0,5°, покрытие NIR II
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расхождение 0,5°, покрытие UV-VIS
Подробнее
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расхождение 0,5°, покрытие UV-VIS
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расхождение 0,5°, покрытие UV-VIS
Подробнее
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расхождение 0,5°, покрытие VIS-NIR
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расхождение 0,5°, покрытие UV-VIS
Подробнее
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расхождение 1,6°, покрытие NIR II
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расхождение 0,5°, покрытие UV-VIS
Подробнее
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расхождение 1,6°, покрытие UV-VIS
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расхождение 0,5°, покрытие UV-VIS
Подробнее
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расхождение 1,6°, покрытие VIS-NIR
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расхождение 0,5°, покрытие UV-VIS
Подробнее
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расхождение 2°, покрытие NIR II
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расхождение 0,5°, покрытие UV-VIS
Подробнее
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расхождение 2°, покрытие UV-VIS
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расхождение 0,5°, покрытие UV-VIS
Подробнее
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 500 мкм, расходимость 1°, покрытие UV-VIS
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расхождение 0,5°, покрытие UV-VIS
Подробнее
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 500 мкм, расхождение 0,25°, покрытие NIR II
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расхождение 0,5°, покрытие UV-VIS
Подробнее
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 500 мкм, расхождение 0,25°, покрытие UV-VIS
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расхождение 0,5°, покрытие UV-VIS
Подробнее
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 500 мкм, расхождение 0,25°, покрытие VIS-NIR
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расхождение 0,5°, покрытие UV-VIS
Подробнее
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 500 мкм, расхождение 0,5°, покрытие NIR II
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расхождение 0,5°, покрытие UV-VIS
Подробнее
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 500 мкм, расхождение 0,5°, покрытие UV-VIS
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 300 мкм, расхождение 0,5°, покрытие UV-VIS
Подробнее
Массив микролинз 10 x 10 мм, шаг 500 мкм, расхождение 0,5°, покрытие VIS-NIR