• Стандартный протокол XY2-100, открытый интерфейс, совместимый с популярными на рынке картами управления. •Поддержка длины волны: 1064 нм. • Разработан на основе характеристик выходного луча популярного на рынке лазера, позволяет максимально эффективно использовать оптические линзы. • Корпус с ЧПУ, защита от пыли, компактная конструкция, простота интеграции. •Дополнительная конструкция водяного охлаждения может быть применена в случаях строгого температурного дрейфа. • Конструкция модуля динамической фокусировки с двойным приводом по оси Z, частота отклика ≥100 Гц при ± 10 °, легко достичь глубины Z 150 мм при 300 мм x 300 мм, применяется к платформе, высокоскоростная обработка 3D-поверхности. • Его можно использовать для движущихся линий, визуального позиционирования, глубокой резьбы, маркировки ступеней и других приложений на производственных линиях с программным обеспечением LenMark и WinMark. •Поддержка настройки компонентов высокой мощности, макс. мощность до 4кВт. • Версия P2 использует технологию управления с цифровой широтно-импульсной модуляцией, имеет более высокую скорость отклика и меньший температурный дрейф. Применение Маркировка больших полей, гравировка, сварка, разметка, текстурирование, удаление поверхности, обработка поверхности, аддитивное производство Версия Pro, P2
Технические характеристики
ХарактеристикиКоличество осей3 осиПрименениедля маркировки, для 3D-приложения, для обработки материалов, лазерной маркировки
