Описание семейства продуктов
- Новая сниженная цена!
- Просветляющее покрытие обеспечивает коэффициент отражения <,1,25% на поверхность для 400–1000 нм
- <,0,25% отражения при 880 нм
- Разработан для угла падения 0
- Различные варианты покрытия: без покрытия, MgF2, VIS 0, NIR I, NIR II, VIS-EXT и YAG-BBAR
Плоско-выпуклые линзы (PCX) имеют положительное фокусное расстояние, что делает их идеальными для сбора и фокусировки света в приложениях для обработки изображений. Они также полезны в различных приложениях, связанных с излучателями, детекторами, лазерами и волоконной оптикой. Версии с покрытием имеют оптимальную светопропускную способность. Доступны различные диаметры и фокусные расстояния.
Эти линзы с покрытием оптимизированы для широкого спектра применений в оптике и фотонике, включая биотехнологические инструменты, такие как секвенаторы ДНК и платформы для тестирования полимеразной цепной реакции (ПЦР).
Технические характеристики
Diameter (mm): 12.00 +0.0/-0.025 Effective Focal Length EFL (mm): 72.00 @ 587.6nm Back Focal Length BFL (mm): 70.42 Coating: VIS-NIR (400-1000nm) Coating Specification: Rabs &le,0.25% @ 880nm
Ravg &le,1.25% @ 400 — 870nm
Ravg &le,1.25% @ 890 — 1000nm Substrate: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More N-BK7 Surface Quality: 40-20 Power (P-V) @ 632.8nm: 1.5&lambda, Irregularity (P-V) @ 632.8nm: &lambda,/4 Focal Length Tolerance (%): ±,1 Centering (arcmin): Center Thickness CT (mm): 2.40 ±,0.05 Edge Thickness ET (mm): 1.91 Radius R1 (mm): 37.21 Clear Aperture CA (mm): 11 f/#: 6.00 Numerical Aperture NA: 0.08 Type: Plano-Convex Lens Bevel: Protective bevel as needed Typical Energy Density Limit: 5 J/cm2 @ 532nm, 10ns Wavelength Range (nm): 400 — 1000 Damage Threshold, By Design: Damage threshold for optical components varies by substrate material and coating. Click here to learn more about this specification. 5 J/cm2 @ 532nm, 10ns
Regulatory Compliance RoHS 2015: Compliant Reach 224: Compliant Certificate of Conformance: View
