Мы использовали новую технологию производства для создания объективов с одновременно улучшенной числовой апертурой, рабочим расстоянием и плоскостностью изображения. Их высокая числовая апертура (NA) и рабочее расстояние 3 мм улучшают поле зрения и качество изображения от центра к краям, обеспечивая большую производительность при автоматизированном контроле полупроводников. Доступны светлопольные линзы с увеличением 20X и 50X. Полуапохроматные объективы MX Plan с большой числовой апертурой и большим рабочим расстоянием – MXPLFLN • Разработаны для методов наблюдения в светлом поле, дифференциально-интерференционном контрасте (DIC), флуоресценции и простом поляризованном свете • Сочетают в себе высокую апертуру, большое рабочее расстояние и плоскостность изображения • Доступен с 20-кратным и 50-кратным увеличением и рабочим расстоянием 3 мм. MXPLFLN50X MXPLFLN50X — наш первый объектив с 50-кратным увеличением с числовой апертурой 0,8 и рабочим расстоянием 3 мм. По сравнению с объективом LMPLFLN100X поле зрения в четыре раза больше благодаря числовой апертуре 0,8 при 50-кратном увеличении. MXPLFLN20X MXPLFLN20X — наш первый объектив с 20-кратным увеличением с числовой апертурой 0,6 и рабочим расстоянием 3 мм. Его высокая числовая апертура и высокая плоскостность изображения позволяют создавать однородные изображения, которые идеально подходят для сшивания.
Технические характеристики
ХарактеристикиТип масштабТехнические применениядля контроль полупроводниковДругие характеристикиполуапохромат
