Механизм нанесения покрытия с высокой скоростью диссоциации практически без ионной бомбардировки для поддержания хороших характеристик интерфейса, при этом с помощью этой надежной технологии нанесения покрытия может быть достигнута высокая подвижность носителей. Нанесение на оборудование Покрытие прозрачного проводящего слоя (TCO). Процесс. Целевые ионы с высоким свободным состоянием, сублимированные пучком низкоэнергетических электронов, рекомбинируют на подложке, образуя высококачественную пленку. Особенности • Один из крупнейших в мире производителей гетеропереходных солнечных элементов выбирает только оборудование RPD. • Степень диссоциации индия до 80%, что обеспечивает высококачественную прозрачную проводящую пленку. • Процесс нанесения покрытия представляет собой ионную бомбардировку с напряжением менее 30 эВ, не повреждает пленку аморфного кремния и сохраняет хорошие характеристики интерфейса. • Высокая подвижность носителей и низкая концентрация носителей обеспечивают превосходную проводимость и высокий коэффициент пропускания в длинноволновом диапазоне. • Мобильность носителя IWO до 80 см2/Вс, где мобильность носителя ICO может достигать 130 см2/Вс. • Долгосрочная проверка массового производства производителей элементов HJT, эффективность преобразования солнечных элементов HJT, производимых RPD, на 0,4% больше, чем сделано. другим оборудованием. • Оборудование РПД линейного и петлевого типа может быть поставлено по запросу заказчика.
Технические характеристики
ХарактеристикиПриложениясолнечная энергия
