Реакторы с псевдоожиженным слоем Parr широко используются в химической промышленности. Отличительной особенностью реактора с псевдоожиженным слоем является то, что слой твердых частиц или катализатора поддерживается восходящим потоком газа. Этот реактор обеспечивает легкую загрузку и удаление катализатора. Это выгодно, когда слой твердых частиц необходимо часто снимать и заменять. С помощью реактора этого типа возможна высокая конверсия с большой пропускной способностью. Такие реакторы по своей сути обладают превосходными характеристиками теплопередачи и смешивания. Кипящий слой широко используется в химических процессах, в которых такие параметры, как диффузия или теплопередача, являются основными параметрами проектирования. По сравнению с насадочным слоем псевдоожиженный слой имеет такие заметные преимущества, как лучший контроль температуры, отсутствие горячих точек в слое, равномерное распределение катализатора и более длительный срок службы катализатора. Почти все значительные коммерческие применения технологии псевдоожиженного слоя касаются систем газ-твердое тело. Применение реакторов с псевдоожиженным слоем включает, помимо прочего, реакции газ-твердое вещество, синтез Фишера-Тропша и каталитический крекинг углеводородов и связанных с ними высокомолекулярных нефтяных фракций. Газификацию в псевдоожиженном слое можно использовать для преобразования угля, биомассы и других отходов в синтез-газ.
Технические характеристики
ХарактеристикиТипкипящий слойПрименениепроцесс Другие характеристикинапольный
