Высокоточные результаты менее чем за 20 секунд (пример: низколегированные стали) и анализ основных легирующих элементов менее чем за 12 секунд. (пример: железо, алюминий и медные материалы) — Уникальная стандартизация одного образца iCAL 2.0 помогает поддерживать ту же стандартизацию — независимо от большинства температурных изменений и экономит в среднем 30 минут в день — Снижение потребления аргона до 50 % по сравнению с предыдущими моделями в режиме ожидания и на 13 % меньше при полнопоточном режиме работы. Пределы обнаружения для анализа меди высокой чистоты улучшены на 30 % по сравнению со своим предшественником. Компания SPECTRO, лидер в области инноваций в области дуговой/искровой сварки, потратила более 40 лет на разработку превосходных приборов OES. Недавно компания усовершенствовала полупроводниковые детекторы с использованием запатентованной технологии CMOS+T, что произвело революцию в высококлассном анализе OES дуги/искры — с помощью SPECTROLAB S. Эффективность и экономичность этого прибора постоянно улучшаются за счет систематического мнения клиентов и тщательного тестирования удобства использования. Итак, теперь полностью обновленный пакет программного обеспечения обеспечивает еще большую функциональность и простоту использования. Расход аргона снижается до 50 % в режиме ожидания и на 13 % при измерении образцов. Программа быстрого анализа позволяет за 12 секунд измерить содержание основных легирующих элементов в некоторых ключевых металлах. А пределы обнаружения (LOD) для меди высокой чистоты улучшены на 30 %. SPECTROLAB S разработан для обеспечения максимально быстрых измерений, максимальной производительности, самых низких пределов обнаружения, самого длительного времени безотказной работы и максимальной гибкости, доступной в будущем. Это инструмент для производителей первичных и вторичных металлов, производителей автомобилей и аэрокосмической техники, а также производителей готовой продукции и полуфабрикатов.
Технические характеристики
ХарактеристикиТипоптический, искровое оптическое излучениеДоменпроцесс, измерение, быстрый, промышленный, для анализа металлов, для контроля качества, литейное производствоДругие характеристикивысокое разрешение, высококачественный, полупроводниковый Длина волны
Макс.: 770 нм
Мин.: 120 нм
