Распыление HIPIMS означает импульсное магнетронное распыление высокой мощности. Это относительно недавнее достижение в области импульсного распыления с использованием очень мощных и коротких импульсов мощности для генерации плазмы и ионизации большого процента распыленных атомов. Было показано, что точный контроль интенсивности магнитного поля на поверхности мишени имеет решающее значение для процесса HIPIMS как для уменьшения образования дуги, так и для оптимальной ионизации распыляемого материала. Angstrom Science разработала решения как для своей линейки круглых, так и для линейных магнетронов, которые позволяют изменять магнитное поле либо дискретно (с помощью сменных наборов магнитов для внутренних катодов), либо непрерывно (посредством регулировки высоты пакета магнитов на внешних катодах). Магнетроны HIPIMS используются для предварительной обработки прямых участков перед нанесением покрытия и нанесения тонких пленок с высокой плотностью микроструктуры.
Технические характеристики
ХарактеристикиПараметрыимпульсный
