Плазменная система Yocto III в основном используется в следующих приложениях: активация, очистка Основное оборудование Напряжение питания: 230 В Подача газа Технологический газ через фильтр Поток через клапан (нерегулируемый) Вентиляция через фильтр Вакуумные камеры Боросиликатное стекло (UHP) круглое с крышкой ( около ∅ 50 мм, длина 150 мм) Электроды Пара электродов вне вакуумной камеры Органы управления Генератор для генерации плазмы 2-ступенчатый переключатель Кнопка «Пуск» Выключатель питания Генераторы Частоты: 100 кГц: мощность 0–30 Вт Вакуумный насос Установлен в корпусе Безмасляная производительность: 0,75 м3/ч Плазменные процессы Очистка материалов Плазменная технология предлагает решения для любого типа загрязнения, для любого основания и любой последующей обработки. При этом также разлагаются остатки молекулярных загрязнений. Активация материалов Хорошая смачиваемость является необходимым условием для адгезии связующих при покраске, склеивании, печати или склеивании.
Технические характеристики
ХарактеристикиТипплазмаДругие характеристикивакуум
