Установка плазменной обработки VacuTEC 2020 компании Tantec предназначена для обработки большого количества различных деталей, отлитых под давлением. VacuTEC обеспечивает очень быстрое время обработки и оптимальные адгезионные свойства для последующего нанесения покрытий, склеивания, окраски и печати. В камере обработки создается вакуум до уровня от 0,1 до 3 мбар, после чего через встроенный плазменный электрод создается электрический разряд. Время цикла обработки часто короткое, от 20 до 120 секунд в зависимости от материала и его состава. VacuTEC ценится за простоту эксплуатации, надежность производства и высокую скорость процесса. Можно применять обработку такими газами, как аргон и кислород, но в большинстве случаев в этом нет необходимости из-за высокой мощности плазменного разряда. VacuTEC использует усовершенствованный генератор энергии Tantec серии HV-X в качестве источника питания и специально разработанный плазменный трансформатор для подачи напряжения на плазменные электроды. ОСОБЕННОСТИ: — Простота установки и использования. Подключитесь к электросети. Быстрое время обработки. Высокая мощность удара позволяет проводить обработку от 20 до 120 секунд, в зависимости от материала. Уровень вакуума Плазменный разряд активен при давлении от 0,1 до 3 мбар в зависимости от применения. Технологический газ Можно использовать технологические газы, такие как кислород и аргон, но в большинстве случаев в этом нет необходимости. Управление процессом Весь плазменный процесс контролируется генератором HV-X и блоком ПЛК. Все параметры отображаются через сенсорную панель
Технические характеристики
ХарактеристикиТипплазмаДругие характеристикивакуум
