Описание семейства продуктов
- Многослойное покрытие Mo/Si на суперполированных подложках
- Максимально достижимое отражение на длине волны 13,5 нм
- Разработано для приложений с фокусировкой луча EUV
- Узкая полоса пропускания для применений HHG
Сферические зеркала с экстремальным ультрафиолетовым излучением (EUV) имеют многослойное покрытие Mo/Si, обеспечивающее отражение более 60% при 13,5 нм. Они рассчитаны на угол падения 5 и предназначены для фокусировки неполяризованных лазерных источников ЭУФ. Шероховатость поверхности менее 3Å RMS сводит к минимуму рассеяние. Это важно для длин волн EUV, которые испытывают большее рассеяние, чем более длинные волны. Сферические зеркала EUV имеют очень узкую полосу пропускания приблизительно 0,5 нм, гарантируя, что только интересующая гармоника 13,5 нм отражается в приложениях с высокой генерацией гармоник (HHG). Типичные области применения сферических зеркал EUV включают когерентную дифракционную визуализацию (CDI), визуализацию EUV и нанообработку EUV.
Примечание: включены данные испытаний каждого производственного образца зеркала.
Технические характеристики
Design Wavelength DWL (nm): 13.5 Substrate: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More Fused Silica (Corning 7980) Surface Roughness (Angstroms): Diameter (mm): 25.40 +0.00/-0.13 Effective Focal Length EFL (mm): 250.00 Radius of Curvature (mm): 500.00 Coating: Mo/Si Multilayer
Top Layer: Silicon Coating Specification: Rabs >60% @ 13.5nm Coating Type: Metal/Semiconductor Radius R1 (mm): 500.00 Thickness (mm): 6.35 ±,0.25 Type: Spherical Mirror Full Width-Half Max FWHM (nm): 0.50
Regulatory Compliance RoHS: Compliant Certificate of Conformance: View
